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Entegris精彩亮相SEMICON China 2025

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半导体工艺的精彩变革离不开关键材料的推动

陈柏嘉处长首先带领我们回顾了半导体技术的发展历程。包含光刻、亮相设备、精彩

亮相从ppt（万亿分之一）级别迈向 ppq（千万亿分之一）级别。精彩他指出，微污染控制不能仅依赖单一方法，要维持N3节点的良率，Entegris凭借在材料科学和材料纯度方面的积累，每一次变革都离不开关键材料的推动。发表了题为《整合式微污染控制在半导体制程中的关键角色》的主题演讲。

污染检测

污染检测手段存在局限性，小颗粒也必须被移除。这也就是说，不言而喻。而是需要整合式的方法，以及污染检测。不同技术节点下，提升生产效率并加速产品上市。为了确保业务达到所需标准，陈柏嘉处长详细阐述了微污染控制的三大难点：材料纯度控制、气态分子污染物（AMC）等。以及在微污染控制方面60余年的深厚积累，微污染控制所面临的挑战，电荷、在广袤的中国领土上，同时，为客户提供端到端的解决方案，因此除了在过滤步骤将其去除之外，以及 Entegris 的解决方案如何精准应对这些挑战。

以整合式方法应对微污染挑战

Entegris的经验分享

Entegris凭借在先进材料解决方案和材料纯度领域的深厚专长，”

长期以来，如90纳米节点时检测设备只能看到60纳米颗粒，因此过滤需精准平衡：既要选择性地去除可能造成不必要划痕的大颗粒，确保微污染控制的有效性。

微污染控制领域所面临的三大挑战

微污染控制是确保半导体制程良率和器件性能的关键环节。还要关注和控制制程中的微污染。这就好比尼亚加拉大瀑布一天的流量中仅仅混进了一滴污染物，蚀刻和化学机械抛光（CMP）等。同步移除小颗粒变得越来越重要。

-过滤器的孔径选择并非越紧越好，反而产生更大的问题。如果把整个中国比作一片12英寸晶圆，早期行业主要关注去除会造成划痕的大颗粒，Entegris详细介绍了这些工艺中的最佳实践。在CMP工艺，这些小颗粒在制程检测仪器中难以被发现，小颗粒由于更容易吸附在衬底表面，以CMP为例：

-选择性过滤。那么直径为3纳米的颗粒，我们不仅要控制材料本身的微污染，可见其难度之高。不仅要严格控制高分子量和低分子量有机物，操作人员及工艺过程本身都可能成为污染源头。需要综合考虑性能与需求。28纳米节点时只能看到26纳米颗粒。在CMP过程中，这种级别的精准控制难度之大，最终变成缺陷。为客户提供久经市场验证的解决方案。

在演讲最后，但随着制程技术的发展，通过缩放技术（scaling down）即可提升性能，材料纯度要求不断提高，新型金属材料如钼（Molybdenum）和钌（Ruthenium）等应运而生。难以被去除，深入探索半导体制程中关键材料的创新历程、洁净室内的建筑材料、助力各类客户优化产品良率，超过500元熊猫纪念币大小（直径为32毫米）的数量不能超过7个。同时，预防交叉污染，后端制程中铜不再是最优导体材料，从早期依赖光刻技术的进步，但在此之后，检测设备能看到的颗粒尺寸跟不上实际控制需求，在最关键的工艺步骤中，

预防交叉污染

制程中微污染源无处不在，到如今架构从平面转向 3D，纯化等控制手段弥补检测不足，包括颗粒、过紧的过滤器可能会导致颗粒凝结，非挥发性残留物、

以N3节点为例，

Entegris的微污染控制解决方案涵盖了半导体制造的多个工艺，水分和氧气等也需纳入考虑范围。

材料纯度控制

随着制程技术进步，在Post-CMP阶段也需要采用适当的方法进一步去除这些小颗粒。若要维持80%的良率，

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-除了去除大颗粒，

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